Medidas dos índices de refração de materiais fotossensíveis utilizando o método de Abelès

Martins, J.S.; René, P.S.; Pinho, R.R.; Lima, C.R.A.

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DC Field	Value	Language
dc.creator	Martins, J.S.	-
dc.creator	René, P.S.	-
dc.creator	Pinho, R.R.	-
dc.creator	Lima, C.R.A.	-
dc.date.accessioned	2018-11-29T10:19:30Z	-
dc.date.available	2018-11-26	-
dc.date.available	2018-11-29T10:19:30Z	-
dc.date.issued	2013-07	-
dc.citation.volume	35	pt_BR
dc.citation.issue	3	pt_BR
dc.citation.spage	3703	pt_BR
dc.citation.epage	3703	pt_BR
dc.identifier.doi	http://dx.doi.org/10.1590/S1806-11172013000300032	pt_BR
dc.identifier.uri	https://repositorio.ufjf.br/jspui/handle/ufjf/8099	-
dc.description.abstract	Positive AZ-1518 photoresist are examples of photosensitive materials widely used in lithographic processes in microelectronics and optic for component relief manufacturing. This photoresist is composed of the photoactive compound (PAC) and the matrix material, which is a thick resin called novolak. When exposed to ultraviolet radiation induced chemical reactions modify their chemical and physical properties. Homogeneous thin films of these photosensitive materials were prepared on glass substrates. This work aims to measure the refractive index of films, exposed and unexposed to ultraviolet radiation, using the Abelès method. From the refractive index changes measurements in photosensitive films would be possible to obtain the fractional rate of decay of photoactive compound (PAC) per unit of intensity. Measurements of this rate provide important indications of microscopic chemical kinetics of photosensitive materials. The results show that the accuracy of the method is sufficient to measure the refractive index changes of these photosensitive materials type.	pt_BR
dc.description.resumo	Fotorresina positiva AZ-1518 é um exemplo de material fotossensível amplamente usado em processos litográficos em microeletrônica e em óptica para fabricação de componente de relevo. Esta fotorresina é formada pelo composto fotoativo (PAC) e de uma matriz, que é uma resina espessa denominada novolak. Quando exposta à radiação ultravioleta, reações químicas induzidas modificam as suas propriedades físicas e químicas. Filmes finos homogêneos desses materiais fotossensíveis foram preparados sobre substratos de vidro. Este trabalho tem como objetivo medir o índice de refração dos filmes, não expostos e expostos à radiação ultravioleta, utilizando o método Abelès. A partir das medidas das variações do índice de refração dos filmes fotossensíveis é possível obter a medida da taxa de decaimento do composto fotoativo (PAC) por unidade de intensidade. Medidas desta taxa fornecem indicações importantes da cinética química microscópica desses materiais fotossensíveis. Os resultados mostram que a precisão do método é suficiente para medir as variações do índice de refração desses tipos de materiais fotossensíveis.	pt_BR
dc.language	por	pt_BR
dc.publisher	-	pt_BR
dc.publisher.country	Brasil	pt_BR
dc.publisher.initials	-	pt_BR
dc.relation.ispartof	Revista Brasileira de Ensino de Física	pt_BR
dc.rights	Acesso Aberto	pt_BR
dc.subject	Fotorresinas positivas	pt_BR
dc.subject	Método de Abelès	pt_BR
dc.subject	Filmes finos	pt_BR
dc.subject	Radiação ultravioleta	pt_BR
dc.subject	Positive photoresist	pt_BR
dc.subject	Abelès method	pt_BR
dc.subject	Thin films	pt_BR
dc.subject	Ultraviolet radiation	pt_BR
dc.subject.cnpq	-	pt_BR
dc.title	Medidas dos índices de refração de materiais fotossensíveis utilizando o método de Abelès	pt_BR
dc.title.alternative	Refractive index measurements of photosensitives materials using Abelès method	pt_BR
dc.type	Artigo de Periódico	pt_BR
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