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https://repositorio.ufjf.br/jspui/handle/ufjf/8099Arquivos associados a este item:
| Arquivo | Descrição | Tamanho | Formato | |
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| Medidas dos índices de refração de materiais fotossensíveis.pdf | 942.89 kB | Adobe PDF |  Visualizar/Abrir |
| Tipo: | Artigo de Periódico |
| Título: | Medidas dos índices de refração de materiais fotossensíveis utilizando o método de Abelès |
| Título(s) alternativo(s): | Refractive index measurements of photosensitives materials using Abelès method |
| Autor(es): | Martins, J.S. René, P.S. Pinho, R.R. Lima, C.R.A. |
| Resumo: | Fotorresina positiva AZ-1518 é um exemplo de material fotossensível amplamente usado em processos litográficos em microeletrônica e em óptica para fabricação de componente de relevo. Esta fotorresina é formada pelo composto fotoativo (PAC) e de uma matriz, que é uma resina espessa denominada novolak. Quando exposta à radiação ultravioleta, reações químicas induzidas modificam as suas propriedades físicas e químicas. Filmes finos homogêneos desses materiais fotossensíveis foram preparados sobre substratos de vidro. Este trabalho tem como objetivo medir o índice de refração dos filmes, não expostos e expostos à radiação ultravioleta, utilizando o método Abelès. A partir das medidas das variações do índice de refração dos filmes fotossensíveis é possível obter a medida da taxa de decaimento do composto fotoativo (PAC) por unidade de intensidade. Medidas desta taxa fornecem indicações importantes da cinética química microscópica desses materiais fotossensíveis. Os resultados mostram que a precisão do método é suficiente para medir as variações do índice de refração desses tipos de materiais fotossensíveis. |
| Abstract: | Positive AZ-1518 photoresist are examples of photosensitive materials widely used in lithographic processes in microelectronics and optic for component relief manufacturing. This photoresist is composed of the photoactive compound (PAC) and the matrix material, which is a thick resin called novolak. When exposed to ultraviolet radiation induced chemical reactions modify their chemical and physical properties. Homogeneous thin films of these photosensitive materials were prepared on glass substrates. This work aims to measure the refractive index of films, exposed and unexposed to ultraviolet radiation, using the Abelès method. From the refractive index changes measurements in photosensitive films would be possible to obtain the fractional rate of decay of photoactive compound (PAC) per unit of intensity. Measurements of this rate provide important indications of microscopic chemical kinetics of photosensitive materials. The results show that the accuracy of the method is sufficient to measure the refractive index changes of these photosensitive materials type. |
| Palavras-chave: | Fotorresinas positivas Método de Abelès Filmes finos Radiação ultravioleta Positive photoresist Abelès method Thin films Ultraviolet radiation |
| CNPq: | - |
| Idioma: | por |
| País: | Brasil |
| Editor: | - |
| Sigla da Instituição: | - |
| Tipo de Acesso: | Acesso Aberto |
| DOI: | http://dx.doi.org/10.1590/S1806-11172013000300032 |
| URI: | https://repositorio.ufjf.br/jspui/handle/ufjf/8099 |
| Data do documento: | Jul-2013 |
| Aparece nas coleções: | Artigos de Periódicos |
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